ASML高数值孔径EUV光刻机实现量产就绪新里程碑

ASML宣布其High NA EUV技术达到新的量产就绪里程碑，Intel Foundry正在Intel 18A工艺节点上使用ASML的High NA EUV光刻机生产Intel Core Ultra Series 3处理器子集。这标志着High NA EUV技术在生产环境中的重要进展。ASML和Intel在光刻技术领域已密切合作数十年。High NA EUV采用0.55数值孔径，相比标准EUV的0.33 NA可实现更高分辨率，支持2nm及以下先进制程的规模化生产。