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ASML任命新CTO聚焦下一代光刻技术研发
内容摘要
ASML宣布新任首席技术官将主导极紫外（EUV）和高数值孔径（High-NA）光刻技术的开发，这是半导体制造设备领域的关键技术突破方向。
核心要点
ASML宣布任命新的首席技术官，重点推进极紫外光刻（EUV）和高数值孔径（High-NA）技术的研发工作。
该人事变动表明ASML将继续加码尖端光刻技术投资，以维持其在半导体设备领域的领先地位。
该人事变动表明ASML将继续加码尖端光刻技术投资，以维持其在半导体设备领域的领先地位。
重要性说明
此举强化ASML在先进制程设备领域的技术壁垒，可能影响未来3nm以下芯片的全球产能分布。...