AI 生成的结构化厂商动态简报
应用材料发布Centris Spectral SiN ALD沉积系统和Producer Selectra Mo Etch蚀刻系统，分别针对GAA晶体管接触衬垫的均匀薄膜沉积和3D NAND字线的钼蚀刻，解决高深宽比3D结构中的工艺均匀性问题，支持AI芯片制造。
