筛选

×
当前筛选 清除全部
关键词: 芯片 ×
228 情报总数
9/12 当前页
TSMC 其他 中信号 2026-03-07

台积电推出开放创新平台强化芯片设计制造协同

台积电推出Open Innovation Platform®,整合工艺技术、IP库、设计工具和制造专业知识,提供统一的芯片设计与制造协同环境。平台通过硅验证IP、先进PDK和优化EDA工具流程,缩短产品上市时间并提高流片成功率。

Google 其他 2026-03-06

谷歌发布中端手机Pixel 10a,强化AI摄影与耐用性

谷歌发布新款智能手机Pixel 10a,采用自研Tensor G4芯片和AI摄影工具,主打耐用性和中端市场定位。该产品延续了谷歌通过硬件与AI整合构建差异化优势的策略,但未涉及企业级技术架构变化。

Ericsson 其他 强信号 2026-03-05

爱立信与英特尔合作开发AI原生6G网络架构

爱立信与英特尔宣布战略合作,共同开发AI原生的6G网络架构和空中接口。双方将整合英特尔硬件平台与爱立信无线技术,推动AI深度融入网络底层设计。合作旨在提升网络性能、能效和自动化水平,为2030年商用部署奠定基础。

Ericsson 其他 中信号 2026-03-05

AT&T与爱立信部署AI原生软件优化云RAN性能

AT&T与爱立信在英特尔至强6 SoC上成功部署AI原生软件,通过实时分析和智能调度提升云化无线接入网性能。该方案利用集成AI加速功能动态优化网络容量和能效,支持AT&T向开放可编程网络架构转型。

Huawei 其他 中信号 2026-03-05

华为发布AI-Native数据中心网络方案星河AI Fabric 2.0

华为推出星河AI Fabric 2.0数据中心网络解决方案,采用AI-Native架构实现网络自治。方案包含自研Solar 5.0芯片交换机、iLossless 3.0智能无损算法和智能管理平台,支持万卡AI集群协同。

TSMC 其他 强信号 2026-03-05

台积电通过先进制程与3D封装技术推动AI硬件创新

台积电披露AI技术研究进展,聚焦N3/N2等先进制程节点和3D Fabric异构集成技术,通过优化晶体管架构和封装方案提升AI芯片性能与能效。该技术旨在突破内存带宽瓶颈,支持从云到边缘的AI应用。

TSMC 其他 中信号 2026-03-05

台积电发布Interconnect技术平台强化芯片设计生态

台积电推出Interconnect技术平台,整合先进封装、3D IC和互连材料等关键技术,提供从设计到制造的一站式解决方案。该平台通过设计规则、电热模型和验证IP库,优化信号完整性、电源完整性和热管理,旨在缩短设计周期并降低开发风险。

Apple 其他 中信号 2026-03-04

苹果发布入门级MacBook Neo强化AI设备端部署

苹果推出起售价599美元的MacBook Neo笔记本电脑,搭载自研A18 Pro芯片,强调设备端AI工作负载处理能力比x86 PC快3倍。产品集成Apple Intelligence功能并预装macOS Tahoe系统,代表苹果通过自研芯片架构向主流价位段扩张的战略。

Huawei 其他 中信号 2026-03-04

华为全闪存存储通过ESG验证展示性能与智能运维能力

华为OceanStor Dorado全闪存存储系统通过ESG技术验证,确认其在性能、效率和可靠性方面的优势。系统采用FlashLink® 3.0架构和智能芯片,实现微秒级延迟和2100万IOPS,集成AI引擎提升运维智能化。

TSMC 其他 中信号 2026-03-04

台积电组建3DFabric联盟推动先进封装生态

台积电通过成立3DFabric联盟整合EDA工具、IP、设计服务到制造封装的全链条伙伴,旨在加速系统级创新。该联盟围绕其3D硅堆叠和先进封装技术,提供验证设计流程以缩短产品上市时间。此举强化台积电在HPC和AI芯片领域的系统集成服务能力。

TSMC 其他 中信号 2026-03-04

台积电组建云端联盟推动半导体设计上云

台积电联合云端服务商、EDA厂商和设计服务伙伴成立开放创新平台云端联盟,构建经过验证的云端设计解决方案框架。该联盟将优化EDA工具在云端的运行效率,提供台积电制程技术认证的参考流程,加速芯片开发全流程。

AMD 其他 中信号 2026-03-04

AMD发布Power Design Manager工具强化硬件设计生态

AMD推出Power Design Manager工具,专注于硬件设计阶段的功耗建模、分析和优化。该工具集成到其FPGA和自适应SoC平台,帮助工程师在产品开发早期识别功耗热点并优化能效。

Apple 其他 中信号 2026-03-03

苹果推出M5芯片强化AI计算能力

苹果发布搭载自研M5芯片的新款MacBook Air,CPU性能宣称全球最快,AI任务处理比M4提升4倍。集成神经加速器并支持Wi-Fi 7,存储容量翻倍至512GB起。

Apple 其他 中信号 2026-03-03

苹果M5芯片集成神经加速器强化本地AI推理

苹果发布M5 Pro和M5 Max芯片,采用Fusion架构集成双晶粒SoC,每个GPU核心内置神经加速器,AI性能相比前代提升4倍。统一内存带宽最高614GB/s,支持128GB内存,针对本地LLM处理和AI模型训练优化。

Apple 其他 中信号 2026-03-03

苹果推出M5 Pro/Max芯片采用融合架构提升AI性能

苹果发布M5 Pro和M5 Max芯片,采用全新融合架构将两个3纳米芯片封装为单一SoC,AI性能提升超4倍。芯片配备18核CPU和集成神经加速器的GPU,统一内存带宽最高达614GB/s。

ASML 其他 中信号 2026-03-03

ASML 光刻与计量检测系统集成半导体制造生态

ASML 构建了以光刻系统为核心,结合计量检测与计算光刻的集成产品矩阵。其 EUV 和 DUV 光刻机支撑先进芯片制造,而 YieldStar 计量系统和 Tachyon 软件提供工艺优化与良率控制。该系统形成从图案成像到过程控制的完整半导体制造工具链。

ASML 其他 2026-03-03

ASML技术全景:从光刻到量测的半导体制造核心

ASML作为全球领先的半导体设备制造商,其技术体系围绕光刻这一核心工艺展开。简报聚焦其三大核心技术支柱:光刻、量测与计算光刻。 在光刻技术领域,ASML提供从深紫外(DUV)到极紫外(EUV)的全系列解决方案。其EUV光刻机采用波长为13.5纳米的极紫外光,是制造先进逻辑和存储芯片的关键。该技术通过高功率激光轰击锡滴产生等离子体光源,并配合精密的光学与真空系统实现纳米级图案化。 在量测与检测方面,ASML通过HMI电子束量测等工具,对光刻后的晶圆进行图案保真度、套刻精度和缺陷的纳米级检测,为工艺控制提供关键数据。 计算光刻技术则通过Tachyon软件平台,利用复杂的算法和大量计算,在芯片设计(掩模版)与物理制造之间进行建模和优化,以补偿光刻过程中的物理效应,确保最终晶圆图案的精确性。这三项技术紧密协同,构成了从设计到制造的完整技术闭环。

AMD 其他 中信号 2026-03-03

AMD 即将公布端到端 AI 战略与产品路线图

AMD 宣布举办 Advancing AI 活动,将系统阐述其 AI 愿景并更新端到端产品布局。活动可能涵盖从数据中心到边缘计算的 AI 加速器与软件生态进展,体现其强化全栈 AI 能力的战略意图。

Samsung Electronics 其他 中信号 2026-03-03

三星与沃达丰验证基于英特尔至强6 SoC的vRAN方案

三星与沃达丰成功完成基于英特尔至强6 SoC的vRAN方案测试,支持多代网络和AI应用。该方案通过软件驱动和云原生架构,实现性能提升和成本降低,计划2026年商用部署。

Apple 其他 2026-03-02

苹果发布iPhone 17e:自研C1X调制解调器性能翻倍,维持599美元起售价

苹果推出iPhone 17e,核心采用自研C1X蜂窝调制解调器,速度相比前代C1提升2倍,能效提升30%。该机型搭载A19芯片,存储容量翻倍至256GB起步,但起售价维持不变。此举旨在通过关键部件自研与成本控制,强化其在高端入门市场的竞争力。